안녕하세요 바니입니다 :) 오늘은 물리전자II 과목의 Fabrication Process 에 대해 이야기 해보려 합니다! 각 공정 과정에 대한 깊은 설명이 아니라 뒷부분에 나오는 p-n junction을 만들기 위한 과정을 설명하려는 것 이기 때문에, 간단하게 설명하고 넘어가려 합니다ㅎㅎ. 공정 과정에 대한 간단한 설명 Thermal Oxidation은 온도를 올려 열 에너지를 생성해 Si wafer을 SiO_2(이산화 규소)로 만드는 과정입니다. 이 과정은 Vertical furnace(수직의 용광로)에 Si wafer를 넣어 고온(열 E)과 O_2 를 반응시켜 SiO_2를 만들게 됩니다. RTP는 열을 가해주는 공정을 빠르게/짧게 진행한다는 것을 말합니다. 열을 가하게 되면 내가 원하는 design과..
