흔한 전자공학도의 필기노트

안녕하세요 바니입니다!! 이전 게시글이었던 2022.02.21 - [전자공학과 전공/물리전자II] - [ 물리전자II ] MOSCAP의 구조와 원리(1) [ 물리전자II ] MOSCAP의 구조와 원리(1) 안녕하세요 바니입니다 '^' 오늘 다뤄볼 주제는 MOSCAP 입니다. MOS는 Metal-Oxide-Semiconductor으로 구성되어있는 구조를 말합니다. 뒤에 나올 중요한 MOSFET을 배우기 전에 알아두어야 할 개념이기 때문에 electronics-bani.tistory.com 에 이어서 MOSCAP에 대한 이야기를 끝내보려 합니다! 오늘은 MOSCAP에서 strong inversion, charge density에 대한 이야기를 중심으로 진행해겠습니다. Strong Inversion 우선, p..

안녕하세요 바니입니다 '^' 오늘 다뤄볼 주제는 MOSCAP 입니다. MOS는 Metal-Oxide-Semiconductor으로 구성되어있는 구조를 말합니다. 뒤에 나올 중요한 MOSFET을 배우기 전에 알아두어야 할 개념이기 때문에 이번 게시물과 다음 게시물, 열심히 써보죠! MOSCAP의 구조 MOSCAP의 구조는 위와 같이 Metal-SiO2-Semi 순서로 이루어져 있습니다. 각각을 보면... Metal - Poly / Poly-Si / highly-doped polycrystalline Si 를 전극으로 사용 SiO2 - 유전막으로써 E-field를 흘러보내줌 Semiconductor - p형이면 n-channel transistor / n형이면 p-channel transistor 위 그림에서..

안녕하세요 바니입니다! 이전 게시글 까지는 p-n junction에 관해 이야기 해 보았는데요! 이번 글은 Metal-Semiconductor구조에 대해 이야기 해보려고 합니다. Metal-Semiconductor Junction Metal-Semiconductor Junction은 metal이 도체로써 전기적으로 흐를 수 있게 해주고, Semiconductor로 이러한 전류를 switching하는 동작을 진행하게 하는 Junction입니다. 이러한 MS Junction의 종류는 두가지가 존재합니다. Schottky contact Ohmic contact 이 두가지를 중점으로 MS junction에 대해 알아봅시다! Schottky contact Schottky contact는 정류역할, rectifyi..

안녕하세요 바니입니다! 너무 늦었지만 이래저래 일이 많았어서.. 과거를 반성하며 이제 열심히 올려보겠습니다. 2월까지 물리전자2를 완성시키고 싶네요 이번 글은 지금까지 배운 forward bias와 reverse bias의 이론적인 내용이 아닌 현실에서 일어나는 추가적인 상황에대해 이야기 해보려 합니다! 2022.01.03 - [전자공학과 전공/물리전자II] - [ 물리전자II ] P-N Junction의 Forward bias와 Reverse bias (1) [ 물리전자II ] P-N Junction의 Forward bias와 Reverse bias (1) 안녕하세요 바니입니다! 오늘은 저번에 배웠던 P-N junction에 전압을 걸어준 상태인 Forward bias와 Reverse bias상태에 대..

안녕하세요 바니입니다! 오늘은 저번에 배웠던 P-N junction에 전압을 걸어준 상태인 Forward bias와 Reverse bias상태에 대해 설명하고, Forward bias에 대해 집중적으로 정리해 보겠습니다 :) P-N Junction에서의 Equilibrium, Forward bias, Reverse bias P-N Junction에 아무런 전압을 걸어주지 않은 상태를 우리는 Equilibrium이라고 합니다. 이 상태에서는 built in potential 만큼인 Vo의 전기장이 걸리게 됩니다. 앞 글에서 설명했던 P-N junction은 모두 Equilibrium상태로 정의됩니다. Forward bias 상태는 p-type쪽에 (+), n-type쪽에 (-)가 걸린 상태입니다. V_f만..

안녕하세요 바니입니다 :) 오늘은 물리전자II 과목의 Fabrication Process 에 대해 이야기 해보려 합니다! 각 공정 과정에 대한 깊은 설명이 아니라 뒷부분에 나오는 p-n junction을 만들기 위한 과정을 설명하려는 것 이기 때문에, 간단하게 설명하고 넘어가려 합니다ㅎㅎ. 공정 과정에 대한 간단한 설명 Thermal Oxidation은 온도를 올려 열 에너지를 생성해 Si wafer을 SiO_2(이산화 규소)로 만드는 과정입니다. 이 과정은 Vertical furnace(수직의 용광로)에 Si wafer를 넣어 고온(열 E)과 O_2 를 반응시켜 SiO_2를 만들게 됩니다. RTP는 열을 가해주는 공정을 빠르게/짧게 진행한다는 것을 말합니다. 열을 가하게 되면 내가 원하는 design과..