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junction depth 2

[반도체공정및응용] Ion Implantation

안녕하세요! 이번 게시글은 ion implantation에 대해 이야기 해보려 합니다. 이번에도 수식이 조금 있어서 그부분은 필기로 대체하고, 정리할 수 있는건 타이핑해서 최대한 정리해 보겠습니다!! diffusion에 이어 ion implantation도 impurity doping의 한 방법입니다. 위 그림과 같이 가속화된 dopant를 넣어주고, 일정 깊이에서 최대 농도를 가지는, Gaussian 분포를 가집니다. Ion Implanter - High voltage Particle Accelerator 위는 ion implantation을 진행하는 implanter입니다. 각 번호로 매겨진 부분에 대해 이야기 해보겠습니다. ①..

[반도체공정및응용] Diffusion

안녕하세요! 오늘 써볼 게시글은 diffusion에 관련된 내용입니다. diffusion에도 수식적 내용이 많이 있는데, 중간 중간 수식적인 부분과 예제 부분은 필기로 대체하고, 주요 부분만 정리를 최대한 진행해보려 합니다!! 우선 impurity doping에 대해 짚고 넘어갑시다. 소자에 Vth를 adjustment해주기 위해서 body에 추가적인 doping을 진행시켜 전기적 특성을 바꾸어줍니다. 이렇게 추가적 doping은 N-type을 위해서 Doner인 5족 원소 P, As를, P-type을 위해 Acceptor인 3족 원소 B를 doping해 줍니다. 이러한 doping방법으로는 오늘 설명할 diffusion과 다음 글이 될 ion implantation이..

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