[희망이음 프로젝트] ALD와 CVD 장비의 선두하는, 국제엘렉트릭코리아

안녕하세요! :)

팀  '엘렉트릭 쇼크'입니다!  

이번 9월에 '국제엘렉트릭코리아'를 비대면으로 탐방할 수 있는 좋은 기회가 생겨서 참여하였고, '희망이음 프로젝트'까지 참여하게 되었습니다. 

 

그래서 반도체 장비 회사인 '국제엘렉트릭코리아' 기업에 대해 알리고 싶어 이렇게 글을 쓰게 되었습니다!
반도체에 대한 관심이 있거나 공정과정, 그리고 이에 사용하는 장비들에 대한 관심이 있다면, 지금부터 소개할 '국제엘렉트릭코리아'를 한 번 눈여겨 보면 좋을 것 같네요!

 

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< '국제엘렉트릭코리아'는? >

 

 우선, '국제엘렉트릭코리아'는 1993년 5월 일본의 세계적인 반도체 장비 메이커인 (주)국제전기와 합작 설립된 회사입니다. 반도체 및 반도체 장비의 제조와 판매 그리고 기술적 유지보수 서비스, 연구 개발로 장비의 국산화를 통해 회사의 발전과 국가의 발전의 초석이 되고자 노력하고 있습니다. 
반도체 전 공정에서 사용되는 확산장비인 Diffusion furnance 및 산화막 형성장비인 LP-CVD를 전문적으로 다루는 기업입니다. 
차세대용 Batch&Semi batch type의 장비시장을 선두하고 확고한 기술 경쟁력 및 품질 최우선 주의를 바탕으로 고객에게 신뢰를 받는 기업으로 알려져 있습니다. 

이 기업의 인재상은, 
'인화의 자세를 갖춘 인재'
'프로기질을 갖는 인재'
'변화와 도전을 즐기는 인재'
를 가집니다. 

"우리는 실력을 고객에게는 신뢰를"
위와 같은 문장이 회사의 경영방침이 되겠습니다. 

 

 그리고 우리나라의 대표적인 반도체기업인 삼성전자와의 협력도 꾸준하게 이어져오고 있습니다. 

< '국제엘렉트릭코리아'의 주요 사업 >

위에서 이야기한 바와 같이, '국제엘렉트릭코리아'는 반도체 확산, 산화막 장비를 주로 제작하는 회사입니다!
3가지의 큰 틀을 기준으로 주요 장비를 소개해보겠습니다. 

1) batch thermal process 장비

-  Bach Thermal Process 장비 (QUIXACE)

 '국제엘렉트릭코리아'의 코어 기술인 온도 제어기술, 자동 반송기술, 진공&가스 치환기술, 냉각기술, 성막기술을 바탕으로, cycle 시간을 단축하여 HIGH Throughput을 실현한 Batch처리 장비입니다. 

LP CVD, oxidation, Anneal 기술을 주로 사용합니다. 

장비의 특징은 다음과 같습니다.

- 200nm Wafer 대응 Batch Thermal Process 장비 (VERTEX)

 200nm wafer에 대응하는 batch thermal process장비인 VERTEX 시리즈는 풍부한 납입 실적을 자랑하는 베스트셀러 장비입니다. DRAM등의 대량 생산 Line으로부터 Logic계 Device의 소량 다품종 Lince까지 고객의 Needs에 최적인 기종을 선택할 수 있고, 200nm wafer 이외의 150nm 이하 wafer에도 대응가능한 장점을 가집니다. 

LP CVD, oxidation, Anneal(저온, 고온), diffusion을 주 Application으로 가집니다. 

이 장비의 특징은 다음과 같습니다. 

2) 고온 anneal 장비

 고온 Anneal 장비는 고품질 wafer 전용의 고온 Anneal process와 반도체 device process의 고온처리용 장비입니다. 초고온 Anneal process에서는 1350℃ 고온 하에 있어 process에서 발생하는 slip을 억제하여 300nm wafer를 HIGH Throughput로 처리하게 됩니다. 

이 장비는 고온 Anneal 및 초고온 Anneal(1300℃ 이상)을 사용합니다. 

장비의 특징은 다음과 같습니다. 

 

3) 매엽 process 장비

- 매엽 Plasma 질화, 산화 장비(MARORA)

 위 장비는 차세대 DRAM, Logic의 Gate 절연막 형성, Flash Memory의 절연막 형성에 최적인 장비입니다. 독자적 Plasma 생성 방식 (MMT방식)을 이용하여 효율적으로 약 1eV의 저전자 온도의 Plasma 형성이 가능하고 Plasma Damage Free인 Plasma처리를 실현하고 있습니다. 

이 장비는 Plasma 질화로는 절연막질화, Plasma 산화로는 박막 산화막 형성, 선택 산화, 이방성 산화를 주 application으로 합니다. 

장비의 특징은 다음과 같습니다. 

 

- 매엽 Ashing 장비(TANDUO)

TANDUO는 독자적 Plasma source 'Helical Resonator'를 이용하여 damage free 처리와 고속 ashing을 실현하고 있는 장비입니다. 고속 반송 system과의 편성에 의해 뛰어난 생산성과 높은 가동률에 의해 많은 고객에게 높은 평가를 얻고 있습니다. 

Resist Etching으로 Bulk Ashing, High-Dose Implant 후의 Ashing을 사용하고 저온 Anneal을 사용합니다. 

이 장비의 특징은 아래와 같습니다. 

 

이러한 장비들이 '국제엘렉트릭코리아'를 대표하는 장비들이 되겠습니다. 


< '국제엘렉트릭코리아'가 나아가야 할 방향 + (추가내용) 설문지 결과 내용 >
기업 탐방을 하면서 '국제엘렉트릭코리아'에 대해 다양한 방면에서 볼 수 있었고, 다음과 같은 분석을 진행해 보았습니다. 

SWOT 분석을 이용해 기업의 대,내외 환경 분석을 진행해보았고 이와 더불어 사람들이 '국제엘렉트릭코리아'에 대해 어떻게 생각하는지 궁금해졌습니다. 
그래서 구글폼을 이용해 설문조사를 진행하였고, 다음과 같은 결과를 얻었습니다. 
(추가)
~~

 

 

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이렇게 '국제엘렉트릭코리아'라는 기업을 탐방해보았습니다. 

 사실 반도체 회사에 대해서는 무지한 저로써, 이렇게 비대면으로 기업을 탐방할 수 있어서 무척 좋은 경험이 되었습니다. 
회사에 대한 정보를 알면서도 많이 배웠고, 산업에서의 발전과 이슈에 대해 알 수 있었습니다. 
이 외에도 많은 반도체 장비 회사를 조사하면서도 반도체 기술의 발전을 간접적으로 느낄 수 있었고, 분석을 진행하면서도 앞으로의 반도체 산업의 방향성을 공부할 수 있었습니다. 
그래서 이러한 활동으로 앞으로 내가 나아가야 할 진로에 대한 생각도 할 수 있어서 너무 좋은 경험이었습니다. 

 제 글이 여러분들에게 '국제엘렉트릭코리아'에 대한 관심을 가질 수 있는 계기가 되었으면 좋겠습니다!
감사합니다 :)

 

+ '국제엘렉트릭코리아'에 대해 더욱 자세히 알고싶으면? http://www.kekorea.co.kr/index.jsp

::: 국제엘렉트릭코리아(주) :::

+ 희망이음 프로젝트에 대해 더 알아보고 싶다면? https://www.hopelink.kr/

희망이음 프로젝트

( 사진 및 글의 출처 : 회사 홈페이지 )