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전자공학과 전공 38

[머신러닝] 2. Probability & Bayesian Learning

안녕하세요! 오늘은 머신러닝의 기본이 되는 probability와 Bayesian Learning에 대해 알아보려 합니다. '확률과 불규칙 신호'과목에서 배운 내용인데 일단 다 까먹었고 ㅎㅎ... 하지만 중요한 내용이기 때문에 짚고 넘어가 보겠습니다! Probability & Statistics 사용 이유 위 사진은 헤드셋 낀 사람의 옆모습을 'DOG'라 인지한 사진입니다. (진짜 강아지 같긴 합니다) 이렇게 컴퓨터가 잘못된 판단을 내리지 않게 delicate한(정교한) 작업을 진행해야 합니다. real world의 data들은 uncertain하고 ambigous하기 때문에 >확률적인 개념0, ∫f(x) = 1이 항상 만족합니다. Contnuou..

[머신러닝] 1. Introduction ML

안녕하세요! 4학년 1학기 때 수강하였던 머신러닝을 간단히 정리하려고 합니다. 앞에 부여된 숫자는 강의자료 숫자이고, 저희 교수님 강의는 유튜브에 잘 올려져 있어서 같이 첨부하려고 합니다 ㅎㅎ https://youtube.com/playlist?list=PLrJcoRcsaj2ub5cWet5ojEwckfEKNvgkG 머신러닝 www.youtube.com 강의 재생 목록이고 교수님 강의.. 정말 명강의 입니다 추천해욥 ('>')b Machine Learning Machine Learning, ML은 computer에게 단순한 일을 부여했을 때 더 나은 performance를 보여줌에 의해 시작되었습니다. 이후 data를 computer에게 부여하고 학습시켜 model을 형성하는 것으로 정의됩니다. (사실 정..

[반도체공정및응용] Packaging

안녕하세요! '반도체 공정 및 응용'수업의 마지막 글인, packaging입니다! 반도체 공정 단계에서 가장 마지막 부분이네요 흐흐... 마지막까지 열심히 써보도록 하겠습니다!!! testing은 wafer의 각 die를 functionality적으로 잘 작동하는지 test하는 과정을 말합니다. DC test는 probe station, 현미경으로 정확하게 진행하게 됩니다. transistor는 pin 3개로 진행할 수 있습니다. (gate, source, drain) Electrical die sorting하는 방법은 다음 4개가 존재합니다. ⅰ. electrical test & wafer burn-in - DC biased test (소자 작동 범위에서) - burn-in: 소자..

[반도체공정및응용] Interconnection

안녕하세요! 오늘은 반도체 공정 및 응용의 Interconnection에 대한 글을 써보려 합니다! 오늘 글은 수식은 없지만 내용과 사진이 많아 길어질 것 같아요..!ㅜ Interconnections in IC chip interconnection은 다음과 같이 IC chip에서 적용됩니다. IC에 사용되는 common interconnection 물질은 다음 세가지가 있습니다. - Al : 증착이 쉬워 쉽게 올릴 수 있고, etching이 쉬움 - poly-Si : Si와 WorkFunction 차이가 적어 ohmic contact가 작기 때문에 loss가 적음 - diffusion regions : 같은 영역으로 도핑 각각은 사용처에 따라 cross over되고 density 향상이 목표점입니다. 이..

[반도체공정및응용] Etching

안녕하세요! 이번 '반도체공정및응용'에서 다뤄볼 공정과정은 Etching과정입니다. 이번 글도 조금 길겠지만 열심히 써볼게요! Etching은 wet 또는 dry chemical reaction을 통해 특정 부분의 물질을 제거하는 과정을 말합니다. 원리는 deposition와 반대로 물질을 제거한다는 점에서 CVD와 비슷한 과정을 보입니다. Etching 과정 Etching은 다음과 같이 3단계 과정을 거칩니다. 1) surface에 diffusion을 통해 reactant를 넣어줌 2) surface에 film과 reactant 사이 둘을 반응시킴 3) 반응하여 생긴 by-product를 surface boundary 밖으로 내보냄 위 과정은 CVD와 매우 유사함을 확인할 수 있습..

[반도체공정및응용] Deposition

안녕하세욥 오늘 글은 반도체 공정 및 응용에서 deposition에 대한 이야기를 해보려합니다! 조금 내용이 길어질 것 같아요.. 그래도 열심히 써보겠습니닷! Vacuum vacuum은 진공 상태를 일컫는 말입니다. 불순물의 영향이 없을수록 고진공 상태를 말하고, 1 Atm = 760 Torr라고 합니다. 이러한 진공도의 기준은 아래와 같습니다. - Low Vacuum : > 10^-3 Torr - High Vacuum : < 10^-3 Torr - Very High Vacuum : < 10^-6 Torr - Ultra High Vacuum : < 10^-9 Torr vacuum은 high vacuum일수록 contamination없이 유지 가능하고 전자와 분자의 mean free p..

[반도체공정및응용] Ion Implantation

안녕하세요! 이번 게시글은 ion implantation에 대해 이야기 해보려 합니다. 이번에도 수식이 조금 있어서 그부분은 필기로 대체하고, 정리할 수 있는건 타이핑해서 최대한 정리해 보겠습니다!! diffusion에 이어 ion implantation도 impurity doping의 한 방법입니다. 위 그림과 같이 가속화된 dopant를 넣어주고, 일정 깊이에서 최대 농도를 가지는, Gaussian 분포를 가집니다. Ion Implanter - High voltage Particle Accelerator 위는 ion implantation을 진행하는 implanter입니다. 각 번호로 매겨진 부분에 대해 이야기 해보겠습니다. ①..

[반도체공정및응용] Diffusion

안녕하세요! 오늘 써볼 게시글은 diffusion에 관련된 내용입니다. diffusion에도 수식적 내용이 많이 있는데, 중간 중간 수식적인 부분과 예제 부분은 필기로 대체하고, 주요 부분만 정리를 최대한 진행해보려 합니다!! 우선 impurity doping에 대해 짚고 넘어갑시다. 소자에 Vth를 adjustment해주기 위해서 body에 추가적인 doping을 진행시켜 전기적 특성을 바꾸어줍니다. 이렇게 추가적 doping은 N-type을 위해서 Doner인 5족 원소 P, As를, P-type을 위해 Acceptor인 3족 원소 B를 doping해 줍니다. 이러한 doping방법으로는 오늘 설명할 diffusion과 다음 글이 될 ion implantation이..

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